第一台国产光刻机设备交付市场，华为公布新的相关专利

半导体产业是全球主要国家的战略高地。美国、荷兰、日本先后对光刻机等半导体制造设备出口进行限制，我国将于8月1日起对镓、锗相关物项实施出口管制。

想要不被“卡脖子”，在关键环节实现自主可控是必经之路。

目前，全球能生产光刻机的厂商寥寥无几。

“卡脖子”的难点主要在两处：一是光源，光刻机要求体系小、功率高而稳定的光源；二是镜片，为了让光线能够精确地照射到硅片上刻画出微小的图案，需要一系列高精度和高光滑度的镜片来聚焦和校准光线。

近日，有消息称，上海微电子正致力于研发28纳米浸没式光刻机，预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。

此前，国家知识产权局公布了一项华为新的专利“反射镜、光刻装置及其控制方法”，在极紫外线光刻机核心技术上取得突破性进展。

目前，华为的超导量子芯片专利技术，大幅提升量子芯片的良率，已经超过了英特尔；本源量子已经研发出中国首个自主研发的超导量子计算机本源悟源。

尽管我国半导体产业面临技术等各种挑战，但高速增长的国内市场规模也为产业升级优化提供了重要机遇。

这其中离不开国家对高质量发明专利技术的完整保护！

专利申请选择

保障性发明专利

为降低发明专利申请被驳回而给企业造成的损失，推出保障性发明专利申请业务，一旦申请被专利局驳回，将退还已收取费用

高质量发明专利

高质量发明专利是指授权率高的发明专利，授权率达到85%以上。核心是授权率高，若是授权不通过，同时还会有申请费用上的退还保障！

实用新型专利申请

实用新型专利，指对产品的形状、构造或者其结合所提出的适于实用的新的技术方案，同样也能够对授权给予保障。

外观专利申请

外观设计专利，是指对产品的形状、图案、色彩或者其结合所做出的富有美感并适于工业上应用的新设计。

外观设计是指工业品的外观设计，也就是工业品的式样。它与发明或实用新型完全不同，即外观设计不是技术方案。